Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Schichten mit Verbesserter Uniformität bei Beschichtungsanlagen mit Horizontal Rotierender Substratführung mit Zusätzlichen Plasmaquellen

EP4103760 Art A1 21. Dezember 2022

Anmelder: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4103760
Aktenzeichen: EP21706497
Anmeldetag: 12. Februar 2021
Veröffentlichung: 21. Dezember 2022
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/35C23C14/50C23C14/54H01J37/32H01J37/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Fraunhofer-Gesellschaft

Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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