Optisches System und Lithographieanlage
EP4104020
Art A1
21. Dezember 2022
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4104020
- Aktenzeichen
- EP21704249
- Anmeldetag
- 8. Februar 2021
- Veröffentlichung
- 21. Dezember 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B26/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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