Substrathalter und Verfahren

EP4105720 Art A1 21. Dezember 2022

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4105720
Aktenzeichen
EP21179874
Anmeldetag
16. Juni 2021
Veröffentlichung
21. Dezember 2022
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20H01L21/683
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von
Pei, Fei Veldhoven, Niederlande
2
Patente gesamt
2
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Zum Anwaltsprofil

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen