Halbleiterbauelement mit einer mit der Gate-Metallisierung Verbundenen Diodenkette
EP4105989
Art A1
21. Dezember 2022
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4105989
- Aktenzeichen
- EP21179748
- Anmeldetag
- 16. Juni 2021
- Veröffentlichung
- 21. Dezember 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L27/02H01L29/78H01L29/739H01L29/861
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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