Metallnitridschicht mit Hoher Kritischer Temperatur mit einer Oxid- oder Oxynitridkeimschicht
EP4107794
Art A1
28. Dezember 2022
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4107794
- Aktenzeichen
- EP21756913
- Anmeldetag
- 17. Februar 2021
- Veröffentlichung
- 28. Dezember 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H10N60/84H10N60/12H10N60/20H10N60/01G01J11/00G01J1/42G01J1/44
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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