Verfahren zur Herstellung einer Metallnitridschicht mit Hoher Kritischer Temperatur

EP4107796 Art A1 28. Dezember 2022

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4107796
Aktenzeichen: EP21757307
Anmeldetag: 17. Februar 2021
Veröffentlichung: 28. Dezember 2022
Rechtsraum: EP
IPC: H10N60/01C23C14/06C23C14/02G01J1/44C23C8/10C23C8/36C23C14/00C23C14/58C23C28/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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