Prozessumgebung zur Strukturierung von Anorganischem Resist
EP4115242
Art A1
11. Januar 2023
Anmelder: Inpria Corporation, Tokyo Electron Limited 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4115242
- Aktenzeichen
- EP21763934
- Anmeldetag
- 1. März 2021
- Veröffentlichung
- 11. Januar 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/38G03F7/004H01L21/027G03F7/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Inpria Corporation
Tokyo Electron Limited - Land
- 🇺🇸 USA
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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