Prozessumgebung zur Strukturierung von Anorganischem Resist

EP4115242 Art A1 11. Januar 2023

Anmelder: Inpria Corporation, Tokyo Electron Limited 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4115242
Aktenzeichen
EP21763934
Anmeldetag
1. März 2021
Veröffentlichung
11. Januar 2023
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/38G03F7/004H01L21/027G03F7/16
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Inpria Corporation
Tokyo Electron Limited
Land
🇺🇸 USA
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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