Halbleiterstruktur und Herstellungsverfahren dafür

EP4117029 Art B1 24. Januar 2024

Anmelder: Changxin Memory Technologies, Inc. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4117029
Aktenzeichen
EP21870475
Anmeldetag
24. September 2021
Veröffentlichung
24. Januar 2024
Erteilung
24. Januar 2024
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/768H01L23/48// H01L21/321
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Changxin Memory Technologies, Inc.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Changxin Memory Technologies

Chinesischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Hefei, spezialisiert auf DRAM-Speicherchips.

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