Element für Plasmaverarbeitungsgerät, Verfahren zu Seiner Herstellung und Plasmaverarbeitungsvorrichtung
EP4117396
Art A1
11. Januar 2023
Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4117396
- Aktenzeichen
- EP21764037
- Anmeldetag
- 5. März 2021
- Veröffentlichung
- 11. Januar 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05H1/46H01L21/3065H01L21/31C23C16/455H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Materials Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München