Verfahren zur Stoffverarbeitung für Verbesserte Cmc-Infiltration

EP4119319 Art B1 27. Dezember 2023

Anmelder: RTX Corporation, Raytheon Technologies Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4119319
Aktenzeichen: EP22184957
Anmeldetag: 14. Juli 2022
Veröffentlichung: 27. Dezember 2023
Erteilung: 27. Dezember 2023
Rechtsraum: EP
IPC: B29B15/12D01D11/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: RTX Corporation
Raytheon Technologies Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 RTX Corporation

US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Verteidigungskonzern, entstanden aus Raytheon und United Technologies. Entwickelt und fertigt Triebwerke, Avionik, Radarsysteme, Raketen- und Verteidigungstechnik für zivile und militärische Kunden.

10.400 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Textiltechnik

Vertreten von