Vorrichtung zur Plasmaerzeugung mit einer Dielektrischen Barriere und Verfahren zur Einleitung einer Plasmaentladung für eine Vorrichtung zur Plasmaerzeugung mit einer Dielektrischen Barriere
EP4120803
Art A1
18. Januar 2023
Anmelder: Ushio Denki Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4120803
- Aktenzeichen
- EP21768415
- Anmeldetag
- 18. Januar 2021
- Veröffentlichung
- 18. Januar 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05H1/24H01L21/3065H01L21/31C23C16/513
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Ushio Denki Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Ushio Inc.
Japanischer Hersteller von Lichtquellen wie Speziallampen, Lasern und LED-Modulen für Industrie, Halbleiterfertigung und Optik mit Sitz in Tokio.
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Weitere Vertreter
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Maiwald GmbH
Maiwald GmbH · München