Vorrichtung zur Plasmaerzeugung mit einer Dielektrischen Barriere und Verfahren zur Einleitung einer Plasmaentladung für eine Vorrichtung zur Plasmaerzeugung mit einer Dielektrischen Barriere

EP4120803 Art A1 18. Januar 2023

Anmelder: Ushio Denki Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4120803
Aktenzeichen
EP21768415
Anmeldetag
18. Januar 2021
Veröffentlichung
18. Januar 2023
Rechtsraum
EP
IPC
H05H1/24H01L21/3065H01L21/31C23C16/513
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Ushio Denki Kabushiki Kaisha
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Ushio Inc.

Japanischer Hersteller von Lichtquellen wie Speziallampen, Lasern und LED-Modulen für Industrie, Halbleiterfertigung und Optik mit Sitz in Tokio.

559 Patente in unserer Datenbank

Kanzlei
Lang & Tomerius München, Deutschland
573
Patente gesamt
2
Patentanwälte
1
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