Verfahren zur Herstellung einer Piezoelektrischen Struktur für eine Hochfrequenzvorrichtung und geeignet zur Übertragung einer Piezoelektrischen Schicht und Verfahren zur Übertragung einer Solchen Piezoelektrischen Schicht
EP4128380
Art B1
25. Juni 2025
Anmelder: Soitec 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4128380
- Aktenzeichen
- EP21713957
- Anmeldetag
- 24. März 2021
- Veröffentlichung
- 25. Juni 2025
- Erteilung
- 25. Juni 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H10N30/072H10N30/073
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Soitec
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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