Verfahren zur Herstellung einer Piezoelektrischen Struktur für eine Hochfrequenzvorrichtung und geeignet zur Übertragung einer Piezoelektrischen Schicht und Verfahren zur Übertragung einer Solchen Piezoelektrischen Schicht

EP4128380 Art B1 25. Juni 2025

Anmelder: Soitec 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4128380
Aktenzeichen
EP21713957
Anmeldetag
24. März 2021
Veröffentlichung
25. Juni 2025
Erteilung
25. Juni 2025
Rechtsraum
EP
IPC
H10N30/072H10N30/073
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Soitec
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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