Cr-Si-Sinterkörper, Sputtertarget und Verfahren zur Herstellung einer Dünnschicht

EP4129954 Art A1 8. Februar 2023

Anmelder: Tosoh Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4129954
Aktenzeichen
EP21777088
Anmeldetag
24. März 2021
Veröffentlichung
8. Februar 2023
Rechtsraum
EP
IPC
C04B35/58C23C14/34C04B35/626C04B35/653H01J37/34C04B35/645C23C14/16
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Tosoh Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tosoh Corporation

Japanisches Chemieunternehmen, das Petrochemikalien, Spezialchemikalien und Zement herstellt.

707 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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