Gegenüber Aktinischen Strahlen oder Strahlung Empfindliche Harzzusammensetzung, Gegenüber Aktinischen Strahlen oder Strahlung Empfindlicher Film, Verfahren zur Formung eines Musters und Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung

EP4129974 Art A1 8. Februar 2023

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4129974
Aktenzeichen: EP21779362
Anmeldetag: 17. März 2021
Veröffentlichung: 8. Februar 2023
Rechtsraum: EP
IPC: C07C309/09G03F7/039G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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