Harzzusammensetzung mit Empfindlichkeit Gegenüber Aktinischen Strahlen oder Strahlung, Verfahren zur Musterbildung, Resistfilm und Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung

EP4129975 Art A1 8. Februar 2023

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4129975
Aktenzeichen: EP21781265
Anmeldetag: 2. März 2021
Veröffentlichung: 8. Februar 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039G03F7/004G03F7/038C07C309/17C07C381/12C08F220/26

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von