Material zur Ortung von Gaslecks, Verfahren zur Ortung von Gaslecks, Material zur Reparatur von Gaslecks und Vorrichtung zur Reparatur von Gaslecks
EP4130061
Art A1
8. Februar 2023
Anmelder: Dexerials Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4130061
- Aktenzeichen
- EP21776512
- Anmeldetag
- 4. März 2021
- Veröffentlichung
- 8. Februar 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08F20/12F16L55/175F16L55/18C09D5/34C09K3/10C09K3/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Dexerials Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Dexerials
Japanischer Hersteller elektronischer Komponenten und optischer Materialien mit Sitz in Tokio, 2012 als Ausgründung aus Sony Chemical hervorgegangen.
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