Halbleitersubstratreinigungsverfahren, Verfahren zur Herstellung eines Verarbeiteten Halbleitersubstrats und Zusammensetzung zum Schälen

EP4130223 Art A1 8. Februar 2023

Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4130223
Aktenzeichen: EP21776962
Anmeldetag: 22. März 2021
Veröffentlichung: 8. Februar 2023
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/02H01L21/311H01L21/683C08G77/12C08G77/20C08G77/00C08L83/04C09J183/04C11D7/26C11D7/34C11D7/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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