Verfahren zur Reinigung eines Halbleitersubstrats, Verfahren zur Herstellung eines Verarbeiteten Halbleitersubstrats und Peeling-Zusammensetzung

EP4130224 Art A1 8. Februar 2023

Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4130224
Aktenzeichen
EP21774536
Anmeldetag
22. März 2021
Veröffentlichung
8. Februar 2023
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/02H01L21/311H01L21/683C11D7/50C08G77/12C08G77/20C09J183/04
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Nissan Chemical Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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