Gasdichtungselement für Hochdruckwasserstoffvorrichtungen und Hochdruckwasserstoffvorrichtung
EP4130545
Art A1
8. Februar 2023
Anmelder: Zeon Corporation, Kyushu University, National University Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4130545
- Aktenzeichen
- EP21775770
- Anmeldetag
- 23. März 2021
- Veröffentlichung
- 8. Februar 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- F17C13/00B60L50/72C09K3/10F16J15/10F17C5/06F17C13/12H01M8/04H01M8/0606C08K3/04C08L15/00// H01M8/04089H01M8/04082C08L83/04C08L23/16C08L27/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Zeon Corporation
Kyushu University, National University Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
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🇯🇵
Kyushu University
Kyushu University ist eine staatliche Universität in Fukuoka, Japan, mit Forschungsschwerpunkten in Natur- und Ingenieurwissenschaften.
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Vertreten von
-
Maiwald GmbH
Maiwald GmbH · München