Aktiv-Lichtempfindliche oder Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Aktiv-Lichtempfindlicher oder Strahlungsempfindlicher Film, Musterbildungsverfahren, Verfahren zum Herstellen einer Elektronischen Vorrichtung, Aktiv-Lichtempfindliche oder Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung zum Herstellen einer Fotomaske, und Verfahren zum Herstellen einer Fotomaske
EP4130878
Art A1
8. Februar 2023
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4130878
- Aktenzeichen
- EP21779830
- Anmeldetag
- 12. März 2021
- Veröffentlichung
- 8. Februar 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
21.764 Patente in unserer Datenbank