Mehrere Thermische Cvd-Kammern mit Gemeinsam Genutztem Gaszufuhr- und Abgassystem

EP4139498 Art A1 1. März 2023

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4139498
Aktenzeichen: EP21791907
Anmeldetag: 31. März 2021
Veröffentlichung: 1. März 2023
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/455C23C16/44C23C16/54C23C16/46H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von