Verfahren zum Herstellen von Reflektiven Optischen Elementen für den Euv-Wellenlängenbereich sowie Reflektive Optische Elemente für den Euv-Wellenlängenbereich

EP4147093 Art A1 15. März 2023

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4147093
Aktenzeichen
EP21725451
Anmeldetag
5. Mai 2021
Veröffentlichung
15. März 2023
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G03F1/24G21K1/06G02B1/12C03C17/34C03C17/36
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen