Verfahren zur Teilchenstrahlinduzierten Verarbeitung eines Defekts einer Mikrolithographischen Photomaske

EP4148498 Art A3 7. Juni 2023

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4148498
Aktenzeichen: EP22191527
Anmeldetag: 22. August 2022
Veröffentlichung: 7. Juni 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/74

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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