Siliciumnitrid-Sinterkörper, Verschleissfestes Element damit und Verfahren zur Herstellung eines Siliciumnitrid-Sinterkörpers
EP4155565
Art B1
28. Januar 2026
Anmelder: Niterra Materials Co., Ltd., KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, Toshiba Materials Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4155565
- Aktenzeichen
- EP21809174
- Anmeldetag
- 14. Mai 2021
- Veröffentlichung
- 28. Januar 2026
- Erteilung
- 28. Januar 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- F16C33/32C04B35/587C04B35/584F16C33/34C04B35/626C04B35/645C04B35/593
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Niterra Materials Co., Ltd.
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
Toshiba Materials Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toshiba
Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München