Aktinische Strahlenempfindliche oder Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Strukturbildungsverfahren, Resistfilm, Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung, Verbindung und Verbindungsherstellungsverfahren

EP4159716 Art A1 5. April 2023

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4159716
Aktenzeichen: EP21812472
Anmeldetag: 21. April 2021
Veröffentlichung: 5. April 2023
Rechtsraum: EP
IPC: C07C303/22C07C309/06C07C309/17C07C381/12C09K3/00G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

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