Metall-Si-Basiertes Pulver, Verfahren zur Herstellung Davon, Metall-Si-Basierter Sinterkörper, Sputtertarget und Metall-Si-Basiertes Dünnfilmherstellungsverfahren
EP4159888
Art A1
5. April 2023
Anmelder: Tosoh Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4159888
- Aktenzeichen
- EP21812235
- Anmeldetag
- 24. Mai 2021
- Veröffentlichung
- 5. April 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34B22F1/00B22F9/08C01B33/06C04B35/58C22C1/04C22C27/06C04B35/622C04B35/645C22C1/05C22C1/10B22F1/05C22C28/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tosoh Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tosoh Corporation
Japanisches Chemieunternehmen, das Petrochemikalien, Spezialchemikalien und Zement herstellt.
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