Substrat für Epitaktisches Wachstum von Gruppe-Iii-Nitriden und Herstellungsverfahren dafür

EP4163424 Art A1 12. April 2023

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4163424
Aktenzeichen: EP21822039
Anmeldetag: 12. April 2021
Veröffentlichung: 12. April 2023
Rechtsraum: EP
IPC: C30B25/18H01L21/20H01L21/205C30B29/38C23C16/34C30B23/02C30B29/40C30B33/06H01L21/02H01L21/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

1.545 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von