Aktivstrahlungsempfindliche oder Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Resistfilm, Strukturbildungsverfahren, Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung und Verbindung

EP4166537 Art A1 19. April 2023

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4166537
Aktenzeichen: EP21822341
Anmeldetag: 19. Mai 2021
Veröffentlichung: 19. April 2023
Rechtsraum: EP
IPC: C07C309/07C07C309/17C07C309/65C07C311/09C07C311/48C07C311/53C07C381/12C07D207/48C07D211/96G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von