Gegenüber Aktinischer Strahlung Empfindliche Bzw. Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Resistfilm, Strukturbildungsverfahren und Herstellungsverfahren für Elektronische Bauelemente

EP4166582 Art A1 19. April 2023

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4166582
Aktenzeichen: EP21821095
Anmeldetag: 19. Mai 2021
Veröffentlichung: 19. April 2023
Rechtsraum: EP
IPC: C08F220/12C08F220/28G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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