Negativresistfilmlaminat und Strukturformungsverfahren

EP4167028 Art A1 19. April 2023

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4167028
Aktenzeichen: EP21822975
Anmeldetag: 14. Mai 2021
Veröffentlichung: 19. April 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/20G03F7/38G03F7/16

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

1.545 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von