Gasbehandlungsverfahren und Gasbehandlungsvorrichtung

EP4169606 Art A1 26. April 2023

Anmelder: Ushio Denki Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4169606
Aktenzeichen: EP21827050
Anmeldetag: 15. Juni 2021
Veröffentlichung: 26. April 2023
Rechtsraum: EP
IPC: C01B13/10B01D53/48B01D53/52B01D53/54B01D53/58B01D53/72B01D53/76A61L2/20A61L9/015A61L9/18

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

🇯🇵 Ushio Inc.

Japanischer Hersteller von Lichtquellen wie Speziallampen, Lasern und LED-Modulen für Industrie, Halbleiterfertigung und Optik mit Sitz in Tokio.

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Anorganische Chemie & Werkstoffe Medizintechnik & Gesundheit Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von

Tomerius, Isabel Lang & Tomerius München, Deutschland

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Fachgebiete

Anmelder-Länder

Schwerpunkte

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik Medizintechnik & Gesundheit Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Kanzlei

Lang & Tomerius München, Deutschland

573

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