Schichtdickenschätzung aus Maschinenlernbasierter Verarbeitung von Substratbildern
EP4172560
Art A1
3. Mai 2023
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4172560
- Aktenzeichen
- EP21834628
- Anmeldetag
- 25. Juni 2021
- Veröffentlichung
- 3. Mai 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01B11/06H01L21/66G06T7/00G06T7/62G06T7/90G06N3/04G06N3/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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