In-Situ-Dünnschichtmessung durch Transparenten Kristall und Transparentes Substrat in der Wand einer Verarbeitungskammer
EP4173023
Art A1
3. Mai 2023
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4173023
- Aktenzeichen
- EP21822035
- Anmeldetag
- 11. Juni 2021
- Veröffentlichung
- 3. Mai 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/66H01L21/67G01B11/06C23C16/52H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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