Photoresistzusammensetzung, System mit einer Photoresistzusammensetzung, Verfahren zur Herstellung einer Dreidimensionalen Struktur und Verwendung einer Photoresistzusammensetzung Beim 3D-Drucken

EP4173824 Art A1 3. Mai 2023

Anmelder: Karlsruher Institut für Technologie 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4173824
Aktenzeichen
EP21205242
Anmeldetag
28. Oktober 2021
Veröffentlichung
3. Mai 2023
Rechtsraum
EP
IPC
B33Y10/00B33Y30/00B33Y70/00G03F7/00G03F7/029G03F7/031G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Karlsruher Institut für Technologie
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Karlsruher Institut für Technologie

Deutsche Universität und Forschungseinrichtung in Karlsruhe, entstanden aus Fusion von Universität und Großforschungszentrum, mit Lehre und Forschung in Natur-, Ingenieur- und Technikwissenschaften.

840 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen