Photoresistzusammensetzung, System mit einer Photoresistzusammensetzung, Verfahren zur Herstellung einer Dreidimensionalen Struktur und Verwendung einer Photoresistzusammensetzung Beim 3D-Drucken
EP4173824
Art A1
3. Mai 2023
Anmelder: Karlsruher Institut für Technologie 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4173824
- Aktenzeichen
- EP21205242
- Anmeldetag
- 28. Oktober 2021
- Veröffentlichung
- 3. Mai 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B33Y10/00B33Y30/00B33Y70/00G03F7/00G03F7/029G03F7/031G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Karlsruher Institut für Technologie
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Karlsruher Institut für Technologie
Deutsche Universität und Forschungseinrichtung in Karlsruhe, entstanden aus Fusion von Universität und Großforschungszentrum, mit Lehre und Forschung in Natur-, Ingenieur- und Technikwissenschaften.
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