Herstellungsverfahren für Dotierungsmateriallösung zur Filmerzeugung, Herstellungsverfahren für Schichtprodukt, Dotierungsmateriallösung zur Filmerzeugung und Halbleiterfilm

EP4174210 Art A1 3. Mai 2023

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD., Kochi Prefectural Public University Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4174210
Aktenzeichen
EP21832782
Anmeldetag
7. Juni 2021
Veröffentlichung
3. Mai 2023
Rechtsraum
EP
IPC
C23C16/40C23C16/448C23C16/455C30B25/02C30B25/14C30B29/16H01L21/365H01L21/368H01L21/02
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Kochi Prefectural Public University Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Kanzlei
Wuesthoff & Wuesthoff München, Deutschland

Wuesthoff & Wuesthoff wurde 1927 in Berlin von Dr. Franz und Dr. Freda Wuesthoff gegründet, die erste deutsche Patentanwältin, und zog 1949 nach München. Schwerpunkte liegen in Biotechnologie und Life Sciences, beraten wird auch auf Chinesisch, Koreanisch und Japanisch.

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