Ferritmaterial für Granatstruktur mit Niedriger Sintertemperatur und Hoher Sättigungsmagnetisierung zur Versinterung mit Silber- oder Goldmetallisierung und Verfahren zur Herstellung des Ferritmaterials
EP4177233
Art A1
10. Mai 2023
Anmelder: THALES 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4177233
- Aktenzeichen
- EP22206021
- Anmeldetag
- 8. November 2022
- Veröffentlichung
- 10. Mai 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C04B35/26C04B35/626C04B35/64G02F1/09H01F1/34H01P1/218C01G49/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- THALES
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Thales
Französischer Technologiekonzern mit Sitz in Paris, aktiv in Luft- und Raumfahrt, Verteidigungstechnik, Sicherheitstechnologie sowie Bahn- und Kommunikationssystemen für zivile und militärische Anwendungen.
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Vertreten von
-
Atout PI Laplace
Atout PI Laplace · Paris