Verfahren und Vorrichtung zur Verringerung von Dickevariationen einer Wortleitungstreppenätzstoppschicht in 3D-Nand-Vorrichtungen
EP4186095
Art A1
31. Mai 2023
Anmelder: Intel NDTM US LLC, INTEL Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4186095
- Aktenzeichen
- EP20945898
- Anmeldetag
- 23. Juli 2020
- Veröffentlichung
- 31. Mai 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H10B41/27H10B41/50H10B43/27H10B43/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Intel NDTM US LLC
INTEL Corporation - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Intel
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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Boehmert & Boehmert
München, Deutschland
Boehmert & Boehmert geht auf die Zulassung von Dr. Karl Boehmert 1931 in Berlin zurück. Mit Standorten in Deutschland, Alicante, Paris und Shanghai bietet die Kanzlei IP aus einer Hand und legt besonderen Wert auf persönliche Mandantenbetreuung statt Anonymität.
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