Strahlungsabschirmungskörper, Verfahren zur Herstellung eines Strahlungsabschirmungskörpers und Strahlungsabschirmungsstruktur

EP4191612 Art A1 7. Juni 2023

Anmelder: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, Toshiba Materials Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4191612
Aktenzeichen
EP21848985
Anmeldetag
27. Juli 2021
Veröffentlichung
7. Juni 2023
Rechtsraum
EP
IPC
G21F1/04G21F3/00C04B22/08C04B22/14C04B28/02// G21F3/04C04B103/00C04B111/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
Toshiba Materials Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

5.205 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Elektrische Energietechnik

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