Halbleiterstruktur und Herstellungsverfahren dafür

EP4191673 Art B1 26. März 2025

Anmelder: Changxin Memory Technologies, Inc. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4191673
Aktenzeichen
EP21912952
Anmeldetag
25. Juni 2021
Veröffentlichung
26. März 2025
Erteilung
26. März 2025
Rechtsraum
EP
IPC
H10B12/00H10B51/30H10B61/00H10B63/00H10B53/30
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Changxin Memory Technologies, Inc.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Changxin Memory Technologies

Chinesischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Hefei, spezialisiert auf DRAM-Speicherchips.

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