Resistive Änderungselemente mit Passivierungsschnittstellenlücken und Verfahren zur Herstellung davon

EP4192782 Art A1 14. Juni 2023

Anmelder: Zeon Corporation, Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4192782
Aktenzeichen: EP21852812
Anmeldetag: 4. August 2021
Veröffentlichung: 14. Juni 2023
Rechtsraum: EP
IPC: B82Y10/00G11C13/00G11C13/02H10N70/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Zeon Corporation
Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

2.552 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von