Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
EP4193222
Art A1
14. Juni 2023
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, ASML Netherlands BV 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4193222
- Aktenzeichen
- EP20760779
- Anmeldetag
- 7. August 2020
- Veröffentlichung
- 14. Juni 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT GmbH
ASML Netherlands BV - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Vertreten von
Frank, Hartmut
Mülheim a. d. Ruhr, Deutschland
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