Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

EP4193222 Art A1 14. Juni 2023

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, ASML Netherlands BV 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4193222
Aktenzeichen
EP20760779
Anmeldetag
7. August 2020
Veröffentlichung
14. Juni 2023
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Carl Zeiss SMT GmbH
ASML Netherlands BV
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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