Struktur mit Widerstandsnetzwerk für Rückwärts-Biasing-Fet-Stapel

EP4195278 Art B1 19. November 2025

Anmelder: GlobalFoundries U.S. Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4195278
Aktenzeichen
EP22203178
Anmeldetag
24. Oktober 2022
Veröffentlichung
19. November 2025
Erteilung
19. November 2025
Rechtsraum
EP
IPC
H10D30/67H10D86/01H10D86/00H10D86/80// H03K17/693
Offizieller Volltext

Abstract

A structure, comprising: a field effect transistor stack including a plurality of transistors over a buried insulator layer; a polysilicon isolation region in a substrate below the field effect transistor stack and the buried insulator layer; and a resistor network in the polysilicon isolation region, the resistor network having a different resistivity than the polysilicon isolation region.

Anmelder

Firma
GlobalFoundries U.S. Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 GlobalFoundries U.S.

US-amerikanisches Unternehmen, das als Halbleiter-Auftragsfertiger (Foundry) Chips für andere Unternehmen produziert, darunter Prozessoren und Speicherbausteine für Elektronik-, Automobil- und Kommunikationsanwendungen.

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