Halbleiterstruktur und Herstellungsverfahren dafür

EP4199085 Art B1 21. Mai 2025

Anmelder: Changxin Memory Technologies, Inc. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4199085
Aktenzeichen
EP22865907
Anmeldetag
6. Januar 2022
Veröffentlichung
21. Mai 2025
Erteilung
21. Mai 2025
Rechtsraum
EP
IPC
H10B12/00H10D30/67H10D64/60
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Changxin Memory Technologies, Inc.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Changxin Memory Technologies

Chinesischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Hefei, spezialisiert auf DRAM-Speicherchips.

2.637 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen