Verfahren zur Lüfterblattenteisung

EP4206450 Art B1 3. Dezember 2025

Anmelder: RTX Corporation, Raytheon Technologies Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4206450
Aktenzeichen: EP23158640
Anmeldetag: 24. Juli 2019
Veröffentlichung: 3. Dezember 2025
Erteilung: 3. Dezember 2025
Rechtsraum: EP
IPC: F02C7/047F01D25/02F25D21/00H05B6/10B64D15/20B64D15/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: RTX Corporation
Raytheon Technologies Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 RTX Corporation

US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Verteidigungskonzern, entstanden aus Raytheon und United Technologies. Entwickelt und fertigt Triebwerke, Avionik, Radarsysteme, Raketen- und Verteidigungstechnik für zivile und militärische Kunden.

10.206 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen) Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Luft- & Raumfahrttechnik

Vertreten von