Zusammensetzung zur Reinigung eines Halbleitersubstrats und Reinigungsverfahren
EP4207250
Art A1
5. Juli 2023
Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4207250
- Aktenzeichen
- EP21875371
- Anmeldetag
- 22. September 2021
- Veröffentlichung
- 5. Juli 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/304C11D3/39C11D7/06C11D7/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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