Zusammensetzung zur Reinigung eines Halbleitersubstrats und Reinigungsverfahren

EP4207250 Art A1 5. Juli 2023

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4207250
Aktenzeichen
EP21875371
Anmeldetag
22. September 2021
Veröffentlichung
5. Juli 2023
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/304C11D3/39C11D7/06C11D7/32
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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