Verfahren zur Herstellung eines Organischen Schichtmusters und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements

EP4210089 Art A1 12. Juli 2023

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4210089
Aktenzeichen: EP21864370
Anmeldetag: 1. September 2021
Veröffentlichung: 12. Juli 2023
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/3065G03F7/11G03F7/40H01L21/304H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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