Bipolartransistorstruktur auf einer Halbleiterlamelle und Verfahren zu Ihrer Herstellung

EP4210110 Art B1 11. März 2026

Anmelder: GlobalFoundries U.S. Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4210110
Aktenzeichen
EP22206418
Anmeldetag
9. November 2022
Veröffentlichung
11. März 2026
Erteilung
11. März 2026
Rechtsraum
EP
IPC
H10D10/01H10D10/00H10D62/10H10D84/03H10D84/40H10D84/01
Offizieller Volltext

Abstract

A bipolar transistor structure comprising a semiconductor fin on a substrate, the semiconductor fin having a first doping type, a length in a first direction, and a width in a second direction perpendicular to the first direction; a first emitter/collector material adjacent a first sidewall of the semiconductor fin along the width of the semiconductor fin, the first emitter/collector material having a second doping type opposite the first doping type; and a second emitter/collector material adjacent a second sidewall of the semiconductor fin along the width of the semiconductor fin, the second emitter/collector material having the second doping type, wherein a width of the first emitter/collector material is different from a width of the second emitter/collector material.

Anmelder

Firma
GlobalFoundries U.S. Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 GlobalFoundries U.S.

US-amerikanisches Unternehmen, das als Halbleiter-Auftragsfertiger (Foundry) Chips für andere Unternehmen produziert, darunter Prozessoren und Speicherbausteine für Elektronik-, Automobil- und Kommunikationsanwendungen.

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