Nanodraht-/folienvorrichtung mit Selbstausgerichtetem Isolationsteil, Herstellungsverfahren und Elektronische Vorrichtung
EP4213218
Art A1
19. Juli 2023
Anmelder: Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4213218
- Aktenzeichen
- EP21863206
- Anmeldetag
- 24. März 2021
- Veröffentlichung
- 19. Juli 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/78H01L29/06H01L21/336H01L21/8234H01L29/423H01L29/66H01L29/775H01L29/786// H01L29/165B82Y10/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences
Chinesisches Forschungsinstitut der Chinese Academy of Sciences mit Schwerpunkt auf Mikroelektronik und Halbleitertechnologie. Patente betreffen Chipdesign und Halbleiterfertigung.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München