Cmc-Wabenbasis für Abreibbare Beschichtung auf Cmc-Boas
EP4219910
Art B1
12. Februar 2025
Anmelder: RTX Corporation, Raytheon Technologies Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4219910
- Aktenzeichen
- EP23166176
- Anmeldetag
- 3. Dezember 2019
- Veröffentlichung
- 12. Februar 2025
- Erteilung
- 12. Februar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- F01D11/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- RTX Corporation
Raytheon Technologies Corporation - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
RTX Corporation
US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Verteidigungskonzern, entstanden aus Raytheon und United Technologies. Entwickelt und fertigt Triebwerke, Avionik, Radarsysteme, Raketen- und Verteidigungstechnik für zivile und militärische Kunden.
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