Reflektierende Struktur für Oberflächenwellenvorrichtungen (saw)
EP4222860
Art A2
9. August 2023
Anmelder: SOITEC 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4222860
- Aktenzeichen
- EP21786397
- Anmeldetag
- 29. September 2021
- Veröffentlichung
- 9. August 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H03H9/02H03H9/145
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SOITEC
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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